多室爐相較于單室爐的優(yōu)勢
2024-07-17
熔爐的使用原因多種多樣,涉及多個行業(yè),其中廣泛的應用是熱處理和冶煉。雖然單室熔爐對許多人來說已經足夠了,但多室熔爐具有更多優(yōu)勢、應用范圍更廣,而且通常用于更高質量的工藝。在本文中,我們將探討為什么應該使用多室熔爐代替單室熔爐。
無論屬于哪一類,爐子都有許多不同的用途,這些用途可以根據(jù)所需的應用進行利用。一些常見的例子包括它們的裝載類型(水平或垂直)、內部負載移動、加熱設計、它們是用于連續(xù)還是批量處理、它們的大小、生產能力以及它們擁有多少個爐腔。在這里,我們關注最后一點,因為它是最重要的一點,我們將研究幾種不同的爐子類型。
廢金屬爐
廢金屬熔爐可以熔化(或合金化)多種金屬。但是,由于金屬的熔化溫度不同,如果涉及多種金屬,則需要使用多個熔爐。金屬熔化速度不僅取決于金屬的類型,還取決于金屬的大小和形狀??梢匀刍慕饘俚淖畛R娦问桨▔K狀、錠狀和各種尺寸的廢金屬。
多室爐的加熱能力根據(jù)金屬的類型和形式以及相對大小而不同。當熔煉大量材料但材料形式各異時,這一點尤為重要。有些爐子甚至可以配備熔液區(qū)(與電磁攪拌器相結合),用于熔煉非常輕的金屬。
多室爐的好處不僅包括不同的加熱環(huán)境,還意味著預熱室可以與爐子結合,以提供更環(huán)保的方法;因為熱量可以在進入高強度爐之前均勻地預熱材料,并可以預先熔化一些熔點較低的廢料。
單獨的多室爐系統(tǒng)可以為廢金屬熔化帶來很多好處,包括高金屬回收率、高熔化速率、使用液態(tài)熔體浸沒材料的能力、制造合金時的低損失、自動廢料裝料、有機雜質的氣化、近乎連續(xù)加熱的能力、更低的能耗和/或裝料和熔化過程中燃燒活動不會中斷。
真空爐
真空爐通常用于高壓氣體淬火 (HPQC) 和低壓滲碳 (LPC) 應用。此外,工業(yè)上執(zhí)行的幾乎所有熱處理工藝(從釬焊到退火、燒結和回火)都是在真空環(huán)境下進行的,因為這樣可以為相關材料提供更好的冶金輸出。
真空爐使用加熱和淬火工藝來加熱并隨后冷卻正在加工的材料。然而,單室爐對于許多應用來說并不理想,因為加熱過程和淬火過程是分開的,并且不在同一系統(tǒng)中發(fā)生。
通過在爐內引入多個腔室,兩種工藝都可以在相同的封閉氣氛中進行,還可以進行選擇性淬火。因此,雖然冷淬火和加熱室是分開的,但它們仍然在同一儀器內,并由絕緣門(加熱室)和耐壓門(淬火部分)隔開,中間有一個傳送模塊,用于在隔間之間切換材料。淬火工藝可以在高壓和低壓下進行,這就是為什么 HPQC 和 LPC 都可以使用這些爐子的原因。
使用多室真空爐的好處包括:產量更高、能耗更低、可以更靈活地適應不同批次大小、負載能力更強、可淬火的表面積更大、局部熱區(qū)減少、以及對爐內氣體和熱量分布的控制更強。
根據(jù)所用爐子的類型,還可以結合其他優(yōu)勢,使用高質量爐子的例子包括精確的徑向或軸向氣流、均勻的淬火、精心的冷卻分布和高度的正常運行時間生產率。
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