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新聞資訊

2024-07-17

多室爐相較于單室爐的優(yōu)勢(shì)

熔爐的使用原因多種多樣，涉及多個(gè)行業(yè)，其中廣泛的應(yīng)用是熱處理和冶煉。雖然單室熔爐對(duì)許多人來(lái)說(shuō)已經(jīng)足夠了，但多室熔爐具有更多優(yōu)勢(shì)、應(yīng)用范圍更廣，而且通常用于更高質(zhì)量的工藝。在本文中，我們將探討為什么應(yīng)該使用多室熔爐代替單室熔爐。

2024-07-17

氣相沉積有哪些優(yōu)點(diǎn)？

化學(xué)氣相沉積爐(或 CVD 爐)用于形成薄層或沉積物，保護(hù)機(jī)械部件免受腐蝕或氧化。Labec CVD 爐使用水平管式爐系統(tǒng)和三通氣體控制系統(tǒng)，提供各種管尺寸，工作溫度為 +1700oC。 化學(xué)氣相沉積 (CVD) 是一種在機(jī)械零件表面形成沉積物以防止氧化和腐蝕的工藝。這種保護(hù)涂層經(jīng)常用于航空領(lǐng)域，尤其是在高溫和氧化性環(huán)境中運(yùn)行的反應(yīng)堆渦輪葉片上。該工藝通常在氬氣等中性氣體下，在 1000°C 和 1150°C 左右的溫度下實(shí)現(xiàn)，包括創(chuàng)建一個(gè)密封外殼，將機(jī)械部件放置在其中。它們要么是手工制作的，要么以完全自動(dòng)化的方式進(jìn)行，以優(yōu)化循環(huán)。

2024-07-16

使用氣氛爐的環(huán)境效益

爐內(nèi)氣氛控制對(duì)于確保熱處理工藝有效進(jìn)行至關(guān)重要。惰性氣體（如氮?dú)狻鍤夂秃猓┰诳刂茽t內(nèi)氣氛方面起著至關(guān)重要的作用。這些氣體有助于防止被加熱材料氧化，氧化會(huì)導(dǎo)致變色或結(jié)垢。測(cè)量和取樣爐內(nèi)氣氛也是爐內(nèi)氣氛控制的一個(gè)重要方面，因?yàn)樗兄诖_保使用適當(dāng)?shù)臍怏w混合物。總體而言，使用惰性氣氛爐對(duì)于實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的熱處理結(jié)果至關(guān)重要。

2024-07-16

什么是厚膜燒結(jié)爐？

厚膜燒結(jié)爐 廣泛應(yīng)用于1100℃以下產(chǎn)品在保護(hù)氣氛或空氣中的預(yù)燒、燒成或熱處理，包括導(dǎo)體漿料、電阻介質(zhì)漿料及厚介質(zhì)電路、電阻、電容、電感等電子元器件的銀粉燒成、燒成，電路套管、晶體等元器件的玻璃絕緣體的燒成及金屬熱處理。窯爐溫區(qū)設(shè)計(jì)精良，材料超輕保溫，單回路智能調(diào)節(jié)器控制，具有升溫速度快、控溫精度高、溫度均勻可靠、節(jié)能等特點(diǎn)，是大專院校、科研院所、工廠企業(yè)產(chǎn)品研究及批量生產(chǎn)的理想設(shè)備。

2024-07-16

實(shí)驗(yàn)室馬弗爐結(jié)構(gòu)與設(shè)計(jì)介紹

實(shí)驗(yàn)室馬弗爐本質(zhì)上是一種為需要較高溫度的工藝而設(shè)計(jì)和制造的爐子。該設(shè)備用途廣泛，增加了功能性，并傾向于適應(yīng)各種工藝。憑借卓越的隔熱系統(tǒng)，馬弗爐效率高，能耗低。作為熱處理設(shè)備，馬弗爐可用于工業(yè)的多個(gè)領(lǐng)域。馬弗爐也稱為室式爐或箱式爐，應(yīng)用范圍廣泛，包括實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用，如煅燒和熱處理。
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